Sistema de Erosion por Iones Reactivos (RIE)
El sistema está diseñado para el ataque y erosión de películas delgadas en ambiente no húmedo.
Dispone de una fuente para ionización de átomos o moléculas con capacidad de aceleración de los iones resultantes por un voltaje contra la muestra. Puede hacer un ataque por bombardeo mecánico (por ej. con iones Ar) o con especies químicas reactivas (por ej. con freones, que producen iones F libres.
- Lugar: Centro Atómico Bariloche
- Dependencia: INN-Sala limpia
Sistema de Litografía electronica (SEM y nanomanipulador)
Este sistema está ubicado en la Sala de nanofabricación del INN en el Centro Atómico Bariloche y consiste en un Microscopio electrónico de Barrido, marca FEI modelo XL30/TMP LaB6 especialmente equipado con una Sistema de litografía NPGS v9.0 (aprox. 75 % tiempo de uso) y un nanomanipulador Zyvek (aprox. 25% tiempo de uso).
- Lugar: Centro Atómico Bariloche
- Dependencia: INN-Sala nanofabricación
Sistema de Litografía Óptica Suss MJB4 - DUV
Sistema de litografía óptica de contacto.
- Lugar:CAB
- Dependencia:INN-Sala nanofabricación
Estación de prueba Micromanipulator 6400
- Lugar: Centro Atómico Bariloche
- Dependencia: INN-Sala nanofabricación.
Soldadora Westbond ultrasónica de cables tipo Ballbonder
- Lugar: Centro Atómico Bariloche
- Dependencia: INN-Sala nanofabricación.
Alineador de Máscaras EVG 620
- Lugar:Sala Limpia CAC - Sala Litografía
- Dependencia:Departamento de Micro y Nanotecnología