Phillips 515

El Laboratorio de Caracterización de Materiales del Centro Atómico Bariloche cuenta dos microscopios SEM, uno de ellos con cañón de emisión de campo SEM-FEG. Ambos microscopios están asociados al Sistema Nacional de Microscopia .

Este microscopio electrónico de barrido de baja resolución (>10nm) es ideal para tareas de rutina. Está equipado con un detector de electrones secundarios (SE) y otro dispersivo en energía (EDS).

  • Lugar:Centro Atómico Bariloche
  • Dependencia:CM-GIA

FEG-SEM FEI NANO NOVA

Este microscopio electrónico de barrido cuenta con un cañón de electrones de emisión de campo (FEG) que permite trabajar en modo de alta resolución especial para el estudio de nano-materiales y está equipado con una amplia variedad de detectores que garantizan su versatilidad para diferentes aplicaciones. Además de contar con los clásicos detectores de electrones secundarios (SE) y retrodispersados (BE), cuenta con un  detector SE “in-lens” o "through-the-lens" (TLD-SE) que permite alcanzar una resolución de hasta 1 nm  a 15 kV y 1.6 nm a 1kV. La capacidad de trabajar con un voltaje de desaceleración o “landing”, permite minimizar el daño sobre el espécimen y trabajar con muestras aislantes sin necesidad de recubrimientos conductores. El microscopio cuenta además con un detector de rayos-X para realizar análisis químicos cuantitativos y mapeos químicos por espectroscopia dispersiva en energía (EDS), un detector de difracción de electrones retrodispersados (Electron backscatter diffraction EBSD) que permite realizar mapeos de orientaciones cristalinas, estudios de defectos, bordes de grano, identificación de fases, etc y un detector de electrones difractados transmitidos (Scattering transmited electron microscopy, STEM).

  • Lugar:Centro Atómico Bariloche
  • Dependencia:CM-GIA

Sistema de Litografía electronica (SEM y nanomanipulador)

Este sistema está ubicado en la Sala de nanofabricacion del INN en el Centro Atómico Bariloche y  consiste en un  Microscopio electrónico de Barrido, marca FEI modelo XL30/TMP LaB6 especialmente equipado con una  Sistema de litografía NPGS v9.0 (aprox. 75 % tiempo de uso) y un nanomanipulador Zyvek (aprox. 25% tiempo de uso).

  • Lugar:Centro Atómico Bariloche
  • Dependencia:INN-Sala nanofabricacion-BT-GF-GAIyANN

SEM FEI Quanta 200

  • Lugar:CAC
  • Dependencia:Lab. de Microscopía Electrónica